The purposes of this study was to h

The purposes of this study was to

high efficiency silicon solar cell concepts into industrial production the cleaning and conditioning of the surface prior to passivation gains increasing importance. This research aimed to the applicability of three methods to clean and condition the surface of silicon wafers by an ultra-thin oxide layer. Simple cleaning has been demonstrated that organic residues resulting from wafering. It has been masking the surface during alkine texturing can be removed by UV/O_3 exposure. It used of UV/O_3 (excimer) and HNO_3 oxides result in an improvement of passivation quality and emitter saturation current in combination with Al_2 O_3/SiN_x or Al_2 O_3/SiN_x passivation stacks.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วัตถุประสงค์ในการศึกษาครั้งนี้คือการ แนวคิดเซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนมีประสิทธิภาพสูงในอุตสาหกรรมการผลิตการทำความสะอาดและปรับผิวก่อนทู่กำไรสำคัญที่เพิ่มขึ้น งานวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อการยอมรับวิธีการสามวิธีการทำความสะอาดและสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์บางเฉียบ ทำความสะอาดง่ายได้รับแสดงให้เห็นว่าอินทรีย์ตกค้างที่เกิดจาก wafering มันมีกาวผิวระหว่าง alkine พื้นผิวสามารถลบออกได้ โดยแสง UV/O_3 มันใช้ของ UV/O_3 (เครื่อง) และออกไซด์ HNO_3 ผลของฟิล์มคุณภาพและยิงอิ่มปัจจุบันร่วมกับ O_3 Al_2/SiN_x หรือ Al_2 O_3/SiN_x ทู่กอง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

วัตถุประสงค์ของการศึกษาครั้งนี้คือการ

ที่มีประสิทธิภาพสูงซิลิคอนแนวคิดเซลล์แสงอาทิตย์ในการผลิตอุตสาหกรรมการทำความสะอาดและเครื่องของพื้นผิวก่อนที่จะทู่กำไรสำคัญที่เพิ่มขึ้น การวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อการบังคับใช้ของสามวิธีในการทำความสะอาดและปรับสภาพพื้นผิวของซิลิคอนเวเฟอร์โดยชั้นออกไซด์บางเฉียบ ทำความสะอาดง่ายได้รับการแสดงให้เห็นว่าสารตกค้างอินทรีย์ที่เกิดจากการ wafering มันได้รับการกำบังผิวระหว่างพื้นผิว alkine สามารถลบออกได้โดยการสัมผัสรังสียูวี / O_3 จะใช้ของรังสียูวี / O_3 (excimer) และ HNO_3 ออกไซด์ผลในการปรับปรุงคุณภาพของฟิล์มและอีซีแอลอิ่มตัวในปัจจุบันร่วมกับ Al_2 O_3 / SiN_x หรือ Al_2 O_3 กอง / SiN_x ทู่

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

วัตถุประสงค์ของการศึกษานี้คือซิลิคอนเซลล์แสงอาทิตย์ประสิทธิภาพสูงแนวคิดในการผลิต การทำความสะอาดและปรับสภาพผิวก่อนการแพซซิได้รับความสำคัญมากขึ้นในอุตสาหกรรม การวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อหาวิธีการเพื่อความสะอาดและสภาพผิวของซิลิกอนเวเฟอร์ โดยมีชั้นออกไซด์ที่บางเฉียบ ทำความสะอาดง่ายมีถูกแสดงให้อินทรีย์ที่เกิดจาก wafering . มีกาวใน alkine พื้นผิวพื้นผิวสามารถลบออกได้โดย UV / o_3 แสง มันใช้ UV / o_3 ( Excimer ) และ hno_3 ออกไซด์ผลในการปรับปรุงคุณภาพและสีรุ้ง อีซีปัจจุบันร่วมกับ al_2 o_3 / sin_x หรือ al_2 o_3 / sin_x แพซซิกอง .