XPS was performed with an electron

XPS was performed with an electron spectrometer (SSISSX100).
All binding energies given in this paper are relative
to the Fermi level, and all spectra were excited with the
monochromatized Al Kα line (1486.61 eV). The composition
and thickness of the surface oxide film were simultaneously
calculated according to the method by the previous
studies [1,2].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

XPS ถูกดำเนินการกับการอิเล็กตรอนสเปกโตรมิเตอร์ (SSISSX100)พลังงานรวมทั้งหมดที่กำหนดในเอกสารนี้จะสัมพันธ์การแฟร์มี ระดับ และสเปกตรัมทั้งหมดได้ตื่นเต้นกับการmonochromatized Al Kα บรรทัด (1486.61 eV) องค์ประกอบและความหนาของฟิล์มออกไซด์ที่ผิวไปพร้อม ๆ กันคำนวณตามวิธีการ โดยก่อนหน้านี้การศึกษา [1, 2]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

XPS ได้ดำเนินการกับสเปกโตรมิเตอร์อิเล็กตรอน (SSISSX100)
ทั้งหมดพลังงานที่มีผลผูกพันที่กำหนดไว้ในบทความนี้จะสัมพันธ์
กับระดับ Fermi และสเปกตรัมทุกคนตื่นเต้นกับ
monochromatized สายอัลKα (1,486.61 EV) องค์ประกอบ
และความหนาของฟิล์มออกไซด์พื้นผิวได้พร้อมกัน
คำนวณตามวิธีการโดยก่อนหน้านี้
การศึกษา [1,2]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

XPS แสดงกับอิเล็กตรอนสเปคโตรมิเตอร์ ( ssissx100 )ทั้งหมดรวมพลังให้ในกระดาษนี้เป็นญาติในระดับเฟอร์มิและตื่นเต้นกับสเปกตรัมmonochromatized อัลเคαบรรทัด ( 1486.61 EV ) องค์ประกอบและความหนาของผิวฟิล์มออกไซด์ได้พร้อมกันที่คำนวณตามวิธีการ โดยก่อนหน้านี้การศึกษา [ 1 , 2 ]