In contrast, an ionization ratio of

In contrast, an ionization ratio of close to 100% is already achieved in vacuum arc
deposition . While a superficial similarity to the self-sputtering mode in HIPIMS is present, the underlying physical process and scaling lengths are completely different. A cathodic vacuum arc is characterized by plasma production at micrometer-size cathode spots which are rapidly moving across
the cathode .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในทางตรงกันข้าม อัตราการ ionization ของใกล้ 100% แล้วทำในอาร์คสูญญากาศ
สะสม ในขณะที่ความคล้ายคลึงกันผิวเผินไปยังโหมด sputtering เองใน HIPIMS อยู่ อยู่ภายใต้กระบวนการทางกายภาพและความยาวมาตราส่วนอย่างสมบูรณ์แตกต่างกัน อาร์คเป็นสูญญากาศ cathodic เป็นลักษณะผลิตพลาสม่าที่แคโทดไมโครมิเตอร์ขนาดจุดที่เคลื่อนไหวอย่างรวดเร็วข้าม
แคโทด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในทางตรงกันข้ามอัตราส่วนไอออนไนซ์ของใกล้ 100% ที่ประสบความสำเร็จแล้วในสูญญากาศโค้ง
สะสม ในขณะที่ความคล้ายคลึงกันผิวเผินโหมดสปัตเตอร์ใน HIPIMS เป็นปัจจุบันกระบวนการพื้นฐานทางกายภาพและความยาวปรับจะแตกต่างกันอย่างสมบูรณ์ อาร์คสูญญากาศ cathodic เป็นลักษณะการผลิตพลาสม่าที่ไมโครเมตรขนาดแคโทดจุดซึ่งกำลังจะย้ายอย่างรวดเร็วทั่ว
แคโทด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในทางตรงกันข้าม การวางสัดส่วนเกือบ 100 % แล้วประสบความสำเร็จในการอาร์ค
สูญญากาศ ในขณะที่ผิวเผินคล้ายคลึงกับตนเองทำงานในโหมด hipims เป็นปัจจุบัน , ต้นแบบทางกายภาพกระบวนการและปรับความยาวที่แตกต่างกันอย่างสิ้นเชิง อาร์คสุญญากาศ Cathodic เป็นลักษณะการผลิตพลาสมาที่ไมโครมิเตอร์ขนาดแคโทดปอที่รวดเร็วย้ายข้าม
แคโทด