The phase composition of films is cr

The phase composition of films is crucial for their mechanical, electrical, and optical performance. In sputtering processes, relatively low-growth temperatures and high deposition rates result in limited assembly kinetics.
This in combination with extremely high cooling rates (1013Ks-1) during the condensation of the vapor on the substrate leads to nonequilibrium growth.
Thus, the variation of both thermodynamic and kinetic conditions during deposition enables tailoring of the phase composition.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

องค์ประกอบของเฟสของ films เป็นสิ่งสำคัญสำหรับประสิทธิภาพของเครื่องจักรกล ไฟฟ้า และแสง ในกระบวนการพ่น อุณหภูมิค่อนข้างต่ำเจริญเติบโตและอัตราการสะสมสูงทำแอสเซมบลีจำกัดจลนพลศาสตร์การ
นี้ร่วมกับการระบายความร้อนราคาสูงมาก (1013Ks - 1) ในระหว่างการควบแน่นของไอน้ำบนพื้นผิวนำไปสู่ nonequilibrium เจริญเติบโต
ดัง รูปแบบของเงื่อนไขขอบ และเคลื่อนไหวในระหว่างสะสมช่วยให้ปรับปรุงของส่วนประกอบขั้นตอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

องค์ประกอบเฟสของ LMS ไฟเป็นสิ่งสำคัญสำหรับเครื่องกลไฟฟ้าและประสิทธิภาพการทำงานของพวกเขาแสง ในกระบวนการสปัตเตอร์ค่อนข้างอุณหภูมิต่ำการเจริญเติบโตและอัตราการสะสมสูงส่งผลให้ในการชุมนุมจลนศาสตร์ จำกัด
นี้ในการรวมกันที่มีอัตราการระบายความร้อนที่สูงมาก (1013KS-1) ในระหว่างการรวมตัวของไอน้ำบนพื้นผิวที่นำไปสู่การเจริญเติบโต nonequilibrium
ดังนั้นการเปลี่ยนแปลง เงื่อนไขทางอุณหพลศาสตร์และการเคลื่อนไหวทั้งในระหว่างการสะสมช่วยให้การตัดเย็บขององค์ประกอบขั้นตอน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ขั้นตอนการสอนจึงเป็นสิ่งสำคัญสำหรับพวกเขา เครื่องกล ไฟฟ้า และการแสดงแสง ในกระบวนการสปัตเตอริง อุณหภูมิค่อนข้างต่ำ และอัตราการเติบโตสูง ประกอบผล จำกัด จลนศาสตร์ .
นี้ในการรวมกันกับสูงมากอัตราการเย็น ( 1013ks-1 ) ช่วงการควบแน่นของไอน้ำบนพื้นผิวจะนำไปสู่การเจริญเติบโต nonequilibrium .
ดังนั้นการเปลี่ยนแปลงของเงื่อนไขในการใช้จลนพลศาสตร์เทอร์โมไดนามิกส์และตัดเย็บของเฟสองค์ประกอบ