SEM images of silica particles of U

SEM images of silica particles of U1500 (a), C1500 (b) and FIB cross-sections (52° tilted view on cutting face, tilt correction enabled) for U1500 (c) and C1500 (d). Scale bars correspond to 1000 nm. Contrast in (c) is increased by 50% to enhance visibility of the internal ring structure (indicated by arrows). Vertical lines in (c) and (d) are milling artefacts (FIB curtaining effect).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ภาพใน SEM ของอนุภาคซิลิกาของ U1500 () cross-sections C1500 (b) และตอแหล (52 องศายืดดูหน้าตัด เอียงแก้ไขเปิดใช้งาน) สำหรับ U1500 (c) และ C1500 (d) แถบมาตราส่วนที่สอดคล้องกับ 1000 nm ความแตกต่าง (c) จะเพิ่มขึ้น 50% เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการมองเห็นโครงสร้างภายในวงแหวน (ตามลูกศร) เส้นแนวตั้งใน (c) และ (d) จะกัดสิ่งประดิษฐ์ (ตอแหล curtaining ผล)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพ SEM ของอนุภาคซิลิกาของ U1500 (ก), C1500 (ข) และ FIB ข้ามส่วน (52 องศาเอียงมุมมองในการตัดใบหน้า, การแก้ไขเอียงเปิดใช้งาน) สำหรับ U1500 (ค) และ C1500 (ง) บาร์ขนาดสอดคล้องกับ 1000 นาโนเมตร ความคมชัดใน (ค) จะเพิ่มขึ้น 50% ที่จะเพิ่มการแสดงผลของโครงสร้างภายในแหวน (แสดงโดยลูกศร) มีเส้นแนวตั้งใน (ค) และ (ง) จะกัดสิ่งของ (FIB ปิดม่านผล)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภาพ SEM ของอนุภาคซิลิกาของ u1500 ( A ) , ( B ) และ c1500 Fib และ ( 52 องศาเอียงหน้าเอียงมุมมองในการตัด , การเปิดใช้งาน ) สำหรับ u1500 ( C ) และ c1500 ( D ) บาร์ขนาดสอดคล้องกับ 1000 นาโนเมตร ความคมชัดใน ( C ) เพิ่มขึ้น 50% เพื่อเพิ่มการมองเห็นของโครงสร้างแหวนภายใน ( แสดงโดยลูกศร ) เส้นแนวตั้งใน ( ค ) และ ( ง ) จะกัดรวบ ( FIB curtaining Effect )