Uncoated silicon substrate exhibits

Uncoated silicon substrate exhibits
a pseudo-flat shape with a curvature radius (R0), as shown in
Fig. 6(a). In contrary, Fig. 6(b) reveals that coated silicon substrate contains
tensile stress which tends to contract the film. In this case, silicon
substrate exhibits a concave curvature shape described by σ(+)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แสดงพื้นผิวซิลิโคนเคลือบผิวรูปร่างแบนหลอก มีรัศมีความโค้ง (R0), ดังที่แสดงในรูป 6(a) ตรงกันข้าม มะเดื่อ 6(b) พบว่าเคลือบพื้นผิวซิลิกอนประกอบด้วยความเค้นดึงซึ่งมีแนวโน้มสัญญาฟิล์ม ในกรณีนี้ ซิลิโคนพื้นผิวที่แสดงรูปร่างความโค้งเว้าโดยσ(+)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิลิคอนตั้งต้นเคลือบผิวการจัดแสดงนิทรรศการ
รูปร่างหลอกแบนที่มีความโค้งรัศมี (R0) ดังแสดงใน
รูปที่ 6 (ก) ในทางตรงกันข้ามรูป 6 (ข) แสดงให้เห็นว่าพื้นผิวเคลือบซิลิกอนที่มี
ความเครียดแรงดึงซึ่งมีแนวโน้มที่จะหดตัวภาพยนตร์ ในกรณีนี้ซิลิคอน
ตั้งต้นการจัดแสดงนิทรรศการรูปทรงโค้งเว้าอธิบายโดยσ (+)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

มาเคลือบพื้นผิวซิลิกอนรูปร่างแบนหลอก มีรัศมีความโค้ง ( r0 ) ดังแสดงในภาพที่ 6 ( ) ในทางตรงกันข้าม ภาพที่ 6 ( B ) พบว่า ซิลิโคนเคลือบพื้นผิวประกอบด้วยแรงดึงซึ่งมีแนวโน้มที่จะสัญญาภาพยนตร์ ในกรณีนี้ , ซิลิคอนรูปร่างเว้าความโค้งพื้นผิวจัดแสดงไว้โดยσ ( + )