In a thin film deposition apparatus

In a thin film deposition apparatus, means for depositing a film on a substrate and means for etching the deposited film to make flat the surface thereof, are provided in a reaction vessel independently of each other. This apparatus can rapidly deposit the film without rising the temperature of the substrate excessively. Further, since the deposition means and etching means are independent of each other, the deposition of a film on the substrate and the planarization of the surface of the deposited film can be achieved under various conditions.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในอุปกรณ์สะสมฟิล์มบาง หมายถึงฟิล์มบนพื้นผิวและเพื่อสำหรับการกัดฟิล์มฝากทำแบนพื้นผิวดังกล่าว ฝากไว้ในเรือปฏิกิริยาเป็นอิสระจากกัน อุปกรณ์นี้อย่างรวดเร็วสามารถฝากภาพยนตร์เรื่องนี้ โดยเพิ่มขึ้นอุณหภูมิของพื้นผิวมากเกินไป อีกต่อไป ตั้งแต่สะสมหมายถึงและวิธีการแกะสลักจะเป็นอิสระจากกัน การสะสมของฟิล์มบนพื้นผิว และ planarization ของพื้นผิวของฟิล์มฝากสามารถทำได้ภายใต้เงื่อนไขต่าง ๆ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในภาพยนตร์เรื่องอุปกรณ์การสะสมบางหมายถึงการฝากฟิล์มบนพื้นผิวและวิธีการสำหรับการแกะสลักฟิล์มฝากเพื่อให้แบนพื้นผิวของมันมีไว้ในเรือปฏิกิริยาเป็นอิสระจากกัน อุปกรณ์นี้อย่างรวดเร็วสามารถฝากภาพยนตร์เรื่องนี้ได้โดยไม่ต้องเพิ่มขึ้นอุณหภูมิของพื้นผิวมากเกินไป นอกจากนี้เนื่องจากการสะสมหมายถึงการแกะสลักและวิธีการที่มีความเป็นอิสระของแต่ละอื่น ๆ การทับถมของฟิล์มบนพื้นผิวและ planarization ของพื้นผิวของฟิล์มฝากที่ที่สามารถทำได้ภายใต้เงื่อนไขต่างๆ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในฟิล์มบางของเครื่องมือ หมายถึงการฝากฟิล์มบนพื้นผิว และหมายถึงการมีฟิล์มให้เรียบพื้นผิวของมันไว้ในปฏิกิริยาเรือเป็นอิสระของแต่ละอื่น ๆ เครื่องมือนี้อย่างรวดเร็วสามารถฝากภาพยนตร์โดยไม่เพิ่มอุณหภูมิของผิวมากเกินไป เพิ่มเติม เนื่องจากการวิธีการและแกะสลักหมายความว่าเป็นอิสระของแต่ละอื่น ๆ การสะสมของฟิล์มบนพื้นผิวและ planarization ของพื้นผิวของฝากภาพยนตร์สามารถเกิดขึ้นได้ภายใต้เงื่อนไขต่าง ๆ