The oxide film growth proceeds for

The oxide film growth proceeds for both substrates at efficiency
a little lower than 60% without being affected significantly by
the kind of substrate. After 30 ◦C the production of porous film is
very limited. The oxide films formed on the alloy after 40 min of
anodizing have a thickness higher than that of the film formed on
pure aluminum under the same anodizing conditions. However
the ratio of the thickness of the oxide film of the alloy to that of
pure aluminum decreases with increase of Tanod until 30–35 ◦C
and then it increases.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เงินสดรับการเจริญเติบโตของฟิล์มออกไซด์สำหรับทั้งพื้นผิวที่มีประสิทธิภาพน้อยกว่า 60% โดยไม่ได้รับผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญโดยชนิดของพื้นผิว หลัง 30 ◦C จะผลิตฟิล์มที่มีรูพรุนจำกัด ฟิล์มออกไซด์ที่เกิดขึ้นในโลหะผสมหลังจาก 40 นาทีอโนมีความหนาสูงกว่าของฟิล์มที่เกิดขึ้นบนอลูมิเนียมบริสุทธิ์ภาย anodizing อย่างไรก็ตามอัตราส่วนของความหนาของฟิล์มของออกไซด์ของโลหะผสมที่อลูมิเนียมบริสุทธิ์ลดเพิ่ม Tanod จนถึง 30-35 ◦Cแล้ว ก็

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เงินที่ได้เจริญเติบโตฟิล์มออกไซด์สำหรับพื้นผิวทั้งที่มีประสิทธิภาพ
ต่ำกว่า 60% โดยไม่ต้องได้รับผลกระทบอย่างมีนัยสำคัญโดย
ชนิดของพื้นผิว หลังจาก 30 ◦Cการผลิตภาพยนตร์ที่มีรูพรุนเป็น
ที่ จำกัด มาก ฟิล์มออกไซด์เกิดขึ้นบนโลหะผสมหลังจาก 40 นาทีของ
อโนไดซ์มีความหนาสูงกว่าที่ของภาพยนตร์เรื่องนี้เกิดขึ้นบน
อลูมิเนียมบริสุทธิ์ภายใต้เงื่อนไขเดียวกันอโนไดซ์ อย่างไรก็ตาม
อัตราส่วนของความหนาของฟิล์มออกไซด์ของโลหะผสมที่ของ
อลูมิเนียมบริสุทธิ์ลดลงด้วยการเพิ่มขึ้นของโตนดจนกว่า 30-35 ◦C
แล้วมันจะเพิ่ม