Our innovative reactive gas-timing

Our innovative reactive gas-timing technique for RF magnetron sputtering was applied successfully to achieve nitride and oxide films including AlN, InN, and ITO with good structural and optical properties [5,6].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เทคนิคแก๊สเวลาปฏิกิริยาของเราเป็นนวัตกรรมใหม่สำหรับ RF magnetron พ่นใช้สำเร็จบรรลุ nitride และออกไซด์ฟิล์มรวม ถึง AlN อินน์ ITO ดีแสง และโครงสร้างคุณสมบัติ [5,6]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เทคนิคของเรานวัตกรรมปฏิกิริยาก๊าซระยะเวลาสำหรับ RF สปัตเตอร์แมกถูกนำมาใช้เพื่อให้เกิดการประสบความสำเร็จในไนไตรออกไซด์และภาพยนตร์รวมทั้ง ALN อินน์และ ITO มีคุณสมบัติโครงสร้างและแสงที่ดี [5,6]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เทคนิคนวัตกรรมปฏิกิริยาก๊าซเวลาของเราสำหรับ RF ตรอนสปัตเตอริงถูกใช้เรียบร้อยแล้วเพื่อให้บรรลุและไนไตรด์ฟิล์มออกไซด์รวมถึง ALN อินน์ และ โตะกับโครงสร้างและสมบัติทางแสง [ 5 , 6 ]