However, the formation of hafnon, H

However, the formation of hafnon, HfSiO4 , is believed to be beneficial for the oxidation resistance of the SiHfBCN samples, as it has a significant lower oxygen diffusivity than that of silica or borosilicate glass [35].

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อย่างไรก็ตาม การก่อตัวของ hafnon, HfSiO4 เชื่อว่าเป็น beneficial สำหรับการต้านทานของตัวอย่าง SiHfBCN มันมีงมากที่ลดออกซิเจน diffusivity กว่าของซิลิกาหรือแก้ว borosilicate [35]

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อย่างไรก็ตามการก่อตัวของ hafnon, HfSiO4, เชื่อว่าจะเป็นทางการ Fi Bene สำหรับต้านทานการเกิดออกซิเดชันของตัวอย่าง SiHfBCN เนื่องจากมีการแพร่ออกซิเจน Fi ลาดเทนัยสำคัญต่ำกว่าของซิลิกาหรือ borosilicate แก้ว [35]

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อย่างไรก็ตาม การ hafnon hfsio4 , , เชื่อว่าจะดีจึง่สำหรับการต้านทานของ sihfbcn ตัวอย่างมันมี signi จึงไม่สามารถกระจายออกซิเจนน้อยกว่าซิลิกาหรือ borosilicate แก้ว [ 35 ]