Surface specific TAN removal measur

Surface specific TAN removal measured as 0order nitrification rates (k0a) were similar (0.14–0.18 g N m−2d−1, p = 0.052) in all sys-tems when measured for 8 h after spiking. In all systems, ammonia concentrations decreased from the added 2.5 mg TAN L−1to at least0.5 mg TAN L−1at the end of the sampling period. Most systems removed TAN fast enough to reach 1 mg N L−1 approximately 4 hinto the 8 h sampling period (p = 0.112). Corresponding volumetric TAN removal rates ranged from 20.7 to 27.5 g N m−3d−1(p = 0.052

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวเฉพาะ TAN เอาวัดเป็นราคา 0 สั่งการอนาม็อกซ์ (k0a) คล้ายคลึงกัน (0.14-0.18 m−2d−1 g N, p = 0.052) ในทั้งหมด sys-สินเมื่อวัดหลัง spiking 8 h ในระบบทั้งหมด ความเข้มข้นของแอมโมเนียลดลงจาก mg 2.5 เพิ่ม L−1to TAN ที่ mg least0.5 L−1at ตาลจุดสิ้นสุดของรอบระยะเวลาสุ่มตัวอย่าง ระบบส่วนใหญ่เอาตาลเร็วพอถึงรอบระยะเวลาการสุ่มตัวอย่าง 1 มิลลิกรัม N L−1 hinto ประมาณ 4 8 h (p = 0.112) สอดคล้องเอา volumetric TAN ราคาอยู่ในช่วงจาก 20.7 การ 27.5 g N m−3d−1(p = 0.052

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กำจัดผิวจำเพาะ TAN วัดเป็น 0? เพื่ออัตราไนตริฟิเค (K0A) มีความคล้ายคลึงกัน (0.14-0.18 กรัม n M-2d-1, p = 0.052) ใน SYS-TEMS ทั้งหมดเมื่อวัดเป็นเวลา 8 ชั่วโมงหลังจากองศา ในทุกระบบความเข้มข้นของแอมโมเนียลดลงจากที่เพิ่ม 2.5 มก. L-TAN 1to ที่ least0.5 มิลลิกรัม L-TAN 1at สิ้นสุดระยะเวลาการสุ่มตัวอย่างที่ ระบบส่วนใหญ่ลบออก TAN เร็วพอที่จะไปถึง 1 มิลลิกรัม NL-1 ประมาณ 4 hinto ระยะเวลาการสุ่มตัวอย่าง 8 ชั่วโมง (p = 0.112) สอดคล้องปริมาตรตันอัตราการกำจัดอยู่ในช่วง 20.7-27.5 กรัม n M-3d-1 (p = 0.052

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พื้นผิวที่เฉพาะเจาะจงแทน เอาวัดเป็น 0  สั่งซื้อปริมาณอัตรา ( k0a ) เหมือนกัน ( 0.14 ) 0.18 กรัม N m − 2 − 1 = 0.052 ) ใน sys tems เมื่อวัด 8 H หลังขึ้น ในระบบทั้งหมด ปริมาณแอมโมเนียลดลงจาก 2.5 มิลลิกรัมต่อลิตร บริษัท เวสเทิร์น เพิ่มตัง least0.5 มิลลิกรัมแทน L − 1to ที่ 1at จบการศึกษา .ระบบส่วนใหญ่ออกตันเร็วพอที่จะไปถึง 1 มิลลิกรัม n L − 1 ประมาณ 4 hinto ระยะเวลา 8 H ) ( p = 0.112 ) ที่ปริมาตรแทนการกำจัดอัตราระหว่าง 20.7 ถึง 27.5 g n m −− 1 ( P = 0.052 3D