In ourresults, we found that the pe

In our
results, we found that the percent removal of the different metal
ions on the surfaces of compounds (I) and (II) are lower than
chitosan itself. That can be attributed to the formation of the
intra-molecular hydrogen bonding between the substitution
groups and unit monomer of chitosan, which leads to the
decrease in the free active groups such as OH and NH2 on
the chitosan. That causes a lower in the percent removal of
metal ions.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในของเราผล เราพบว่าเอาเปอร์เซ็นต์ของโลหะต่าง ๆประจุบนพื้นผิวของสาร (I) และ (II) จะต่ำกว่าไคโตซานเอง ที่สามารถเกิดจากการก่อตัวของการไฮโดรเจนภายในโมเลกุลที่ยึดติดระหว่างการแทนที่กลุ่มและหน่วยน้ำยาของไคโตซาน ซึ่งนำไปสู่การลดลงในกลุ่มที่ใช้งานฟรี OH และ NH2 ในไคโตซาน ที่ทำให้ที่ต่ำกว่าในการกำจัดร้อยละประจุโลหะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ของเรา
ผลเราพบว่าการกำจัดร้อยละที่แตกต่างกันของโลหะ
ไอออนบนพื้นผิวของสาร (ฉัน) และ (II) จะต่ำกว่า
ไคโตซานเอง ที่สามารถนำมาประกอบกับการก่อตัวของ
ไฮโดรเจนภายในโมเลกุลระหว่างการเปลี่ยนตัวผู้เล่น
กลุ่มและหน่วยโมโนเมอร์ของไคโตซานซึ่งนำไปสู่
​​การลดลงในกลุ่มที่ใช้งานฟรีเช่น OH และ NH2 ใน
ไคโตซาน ที่ทำให้เกิดการลดลงในการกำจัดเปอร์เซ็นต์ของ
โลหะไอออน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในผลของเรา
, เราพบว่าประสิทธิภาพในการกำจัดไอออนโลหะ
ที่แตกต่างกันบนพื้นผิวของสารประกอบ ( 1 ) และ ( 2 ) ต่ำกว่า
ไคโตซานนั่นเอง ที่สามารถนำมาประกอบกับการเกิดพันธะไฮโดรเจนระหว่างโมเลกุลภายใน

ใช้กลุ่มและหน่วยโมโนเมอร์ของไคโตซาน ซึ่งนำไปสู่
ลดลงฟรีปราดเปรียวกลุ่มต่างๆ เช่น โอ้ และ nh2 บน
ไคโตซานที่ทำให้เกิดการลดลงในประสิทธิภาพในการกำจัด
ไอออนโลหะ