To make NiO thin films, the as-depo

To make NiO thin films, the as-deposited Ni films
were oxidized in air at a temperature of 470 K for 2 h.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เพื่อให้ฟิล์มบาง nio, ภาพยนตร์ ni ตามที่ฝาก
ถูกออกซิไดซ์ในอากาศที่อุณหภูมิ 470 k เป็นเวลา 2 ชั่วโมง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

จะทำให้ฟิล์มบาง NiO ฟิล์ม Ni ฝากเป็น
ถูกออกซิไดซ์ในอากาศอุณหภูมิ 470 K 2 h

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในการทำให้ ภาพยนตร์ บาง NIO ภาพยนตร์ นิการากัวที่มอบไว้ให้
มีสองหน้าสลดผละจากกันในอากาศที่ อุณหภูมิ 470 K สำหรับ 2 ชั่วโมง